DETECHI德仪 DE500DL磁控溅射仪

 

DE500DL磁控溅射仪能够提供高真空的溅射环境，支持多达6个溅射源，适用于不同材料的沉积。可以根据实验需求调节溅射距离，支持直流、脉冲直流、射频电源和高能脉冲电源（HiPIMS），样品可以进行高温加热或低温冷却，配备PLC+PC全自动控制系统，操作简便。

科研实验应用：1、材料科学：用于新材料的开发和薄膜特性的研究；2、电子器件：在半导体器件和光电器件的制造中，进行薄膜沉积；3、光学涂层：用于光学元件的抗反射涂层和反射涂层的沉积；4、生物材料：在生物医学领域，沉积生物相容性薄膜；5、超导材料：在超导量子材料的研究中，进行薄膜的沉积和特性分析。

DETECHI德仪 DE500DL磁控溅射仪技术参数：

• 镀膜室极限真空度：优于9E-9Torr
• 基板尺寸：可选：2英寸、4英寸、6英寸
• 基板加热和冷却：可加热至900℃，冷却至-50℃，基片可旋转
• 超导材料薄膜的高温制备和超导材料薄膜的低温制备
• 薄膜厚度均匀性：优于+/-3%
• 镀膜室：腔体采用304不锈钢材质，设有观察窗
• 真空泵：分子泵（或冷凝泵）和干泵
• 真空阀：高真空板阀
• 腔体充气阀、粗抽或预抽阀、气体控制阀
• 真空测量：宽量程真空计和皮拉尼粗真空计
• 预真空样品室：单个或多个基材装载能力

DETECHI德仪 DE500DL磁控溅射仪使用方法：

1. 设备准备：确保DE500DL磁控溅射仪放置在稳定的工作环境中，连接电源和气源。
2. 样品准备：根据实验需求准备待沉积的样品，确保样品表面清洁。
3. 设置参数：在控制系统中设置溅射源数量、溅射距离、温度和电源类型。
4. 真空抽取：启动真空泵，抽取腔体内的空气，达到所需的真空度。
5. 开始溅射：启动溅射过程，监控镀膜速率和膜厚，确保符合实验要求。
6. 结束操作：完成沉积后，关闭设备，进行样品取出和清理。

DETECHI德仪 DE500DL磁控溅射仪哪些实验室在用：

• 中国科学院物理研究所：用于新型材料的薄膜沉积研究。
• 清华大学材料科学与工程系：在半导体器件的开发中应用。
• 北京大学光电研究中心：用于光学涂层的研究与开发。
• 复旦大学生物医学工程系：在生物材料的薄膜沉积中使用。
• 华南理工大学能源与动力工程学院：用于太阳能电池的薄膜沉积。
• 南京大学超导材料研究所：在超导材料的研究中进行薄膜沉积。

DETECHI德仪 DE500DL磁控溅射仪售后服务支持：

• 保修期：设备通常提供一定期限的保修期，涵盖制造缺陷和材料问题。
• 备件供应：确保常用备件的及时供应，减少设备停机时间。
• 软件更新：定期提供软件升级服务，添加新功能和修复已知问题。
• 硬件升级：可根据需求提供硬件升级服务，提升设备性能。
• 问题响应：针对客户反馈的问题，提供快速响应和解决方案。
• 保修范围：在保修期内，涵盖设备的材料和工艺缺陷。
• 在线资源：提供用户手册、操作指南和常见问题解答（FAQ）的在线访问。
• 满意度调查：定期进行客户满意度调查，收集反馈以改进服务质量。

相关产品：

高真空泵：用于维持实验所需的高真空环境。

薄膜测厚仪：用于实时监测薄膜的厚度。

扫描电子显微镜（SEM）：用于观察薄膜的微观结构。

X射线衍射仪（XRD）：用于分析薄膜的晶体结构。

原子力显微镜（AFM）：用于表面形貌的高分辨率分析。

气相色谱仪（GC）：用于分析沉积过程中气体成分的变化。