ZEISS ULTRA55扫描电子显微镜

 

ULTRA55扫描电子显微镜包含一个完全集成的能量和角度选择性背散射电子(EsB)探测器。提供超高分辨率，用于呈现成分信息。新型EsB探测器具有集成的滤波网格，可提高图像质量，无需额外调整。结合大型多端口分析室、全电动5轴同心台和GEMINI高电流模式，提供卓越的分析能力。

科研实验应用：1、材料科学：用于分析材料的微观结构、表面形貌和成分，帮助研究金属、陶瓷、聚合物等材料的性质；2、生物医学：应用于生物样品的观察，如细胞、组织和生物材料的微观结构分析；3、纳米技术：在纳米材料的研发中，ZEISS ULTRA55 可以用于观察纳米颗粒、纳米线和薄膜等，研究其形貌和尺寸分布；4、半导体工业。

ZEISS ULTRA55扫描电子显微镜技术参数：

• 分辨率：1.0nm@15kV；1.7nm@1kV；4.0nm@0.1kV
• 放大倍数：SE模式下12-900，000x，使用EsB探测器时100-900，000x发射器
• 热场发射类型，稳定性：>0.2%/h
• 加速电压：0.1-30kV
• 探针电流：4pA-10nA（20nA可选）
• 标准探测器：带滤波网格的EsB探测器滤波
• 网格电压：0-1500V，高效镜头内SE探测器Everhart-Thornley二次电子探测器
• 室：330mm(Ø)x270mm(h)，2个EDS端口35°TOA，CCD相机带红外照明
• 5轴电动同心样品台：X=130mm，Y=130mm，Z=50mm，T=-3-70°，R=360°（连续）
• 图像处理分辨率：高达3072x2304像素
• 降噪：七种积分和平均模式
• 图像显示：单个无闪烁19英寸XVGA显示器，SEM图像以1024x768像素显示
• TFT可选
• 图像硬拷贝：可选择Windows驱动的激光、喷墨或视频打印介质
• 系统控制：SmartSEM搭载Windows XP，通过鼠标、键盘和操纵杆以及可选控制面板进行操作

ZEISS ULTRA55扫描电子显微镜使用方法：

1. 样品准备：确保样品表面清洁且导电，必要时可进行金属涂层（如金或碳涂层）以改善电导性。
2. 样品安装：将样品固定在样品台上，确保其稳固且处于正确的位置。
3. 真空系统：启动仪器的真空系统，将样品室抽真空，通常在10^-5至10^-6 Torr的范围内。
4. 设置显微镜参数：根据实验需求设置加速电压、束流强度和成像模式（如二次电子、背散射电子等）。
5. 进行观察：启动扫描过程，观察样品表面，调整显微镜的焦距和倍率以获得最佳图像。
6. 图像采集与分析：使用软件进行图像采集，可以进行后续的图像处理和分析。
7. 样品处理与清洁：实验结束后，将样品取出，并对仪器进行必要的清洁和维护。

ZEISS ULTRA55扫描电子显微镜有哪些实验室在用：

• 中国科学院物理研究所：用于先进功能材料的微结构与形貌表征
• 清华大学材料学院：应用于纳米材料、薄膜、粉末样品的表面形态分析
• 浙江大学材料科学与工程学院：用于新型电池、电子、光电材料的高分辨观察
• 中国科学院半导体研究所：应用于新型半导体材料和器件的微结构分析
• 华中科技大学光电子学院：用于集成电路、薄膜器件的表面微观形貌观察
• 西安交通大学微电子学院：应用于高性能半导体设备、材料的微观表

ZEISS ULTRA55扫描电子显微镜售后服务支持：

• 专业维修团队：具备丰富的ZEISS ULTRA55维修经验，能快速诊断并修复设备故障。
• 定期保养计划：为用户制定合理的定期保养方案，确保仪器长期稳定运行。
• 技术培训支持：提供系统的操作培训与技术指导，帮助用户掌握仪器使用技巧。
• 备件供应保障：建立完善的备件库存管理体系，确保用户及时获得所需配件。
• 远程诊断服务：建立24小时在线技术支持，快速解决用户遇到的各类问题。

相关产品：

样品制备设备：如超声波清洗机和离心机，用于样品的清洁和处理。

扫描探针显微镜（SPM）：可与 SEM 联用，提供更全面的样品表面信息。

能谱仪（EDS）：结合 SEM 进行元素分析，获取样品的化学成分信息。

X射线衍射仪（XRD）：用于补充材料的晶体结构分析。

图像处理软件：用于分析和处理 SEM 获得的图像数据，进行定量分析和形貌表征。