Kurt J. Lesker Company ALD-150LE原子层沉积系统

 

Kurt J. Lesker Company ALD-150LE原子层沉积系统配置为纯热ALD，独立基板加热台，最高工作温度可达 500°C。其独特的工艺室设计可促进均匀的前体分散和输送。独特的垂直流设计反应器，最多13个前体源，两个独立的室入口用于前体输送，独立的基板加热器阶段，304L不锈钢工艺室结构。

科研实验应用：1、半导体制造：制备高质量的绝缘层、导电层和掺杂层；2、纳米材料研究：精确控制纳米薄膜的厚度，适用于纳米器件的开发；3、催化剂开发：在催化剂表面沉积薄膜，以提高催化活性和选择性；3、光电材料：用于制备光电材料的薄层，以改善其光电性能；4、传感器应用：在传感器器件中沉积功能薄膜，提高灵敏度和选择性；5、薄膜太阳能电池。

Kurt J. Lesker Company ALD-150LE原子层沉积系统技术参数：

前体

• 最多13个前体源，配备两个独立的腔室入口
• 有多种前体输送选项可供选择，包括蒸汽吸入、流通和脉冲气体输送
• 曝光模式包括动态、静态和可变驻留模式
• 臭氧源

典型工艺

• Al2O3、TiO2、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZrO2、HZO、ZnO、AZO、AlN、TiN、GaN、Pt 和 Ru

基板转移

• 手动加载
• 手套箱

系统加热

• 独立基板加热台，最高工作温度可达 500°C
• 工艺室和前体输送管线加热至 250°C
• 前驱体加热至200°C
• 输送管线加热至 250°C
• 高达200°C的阀门加热

软件和控制

• KJLC eKLipse系统控制软件（基于 LabView）
• 实时控制器
• 真正精密的 ALD 阀门定时

系统控制

• 基板尺寸和类型：最大150mm单晶圆，100mmX100mm太阳能硅晶圆
• 粉末和颗粒：多孔且高纵横比（高达1:2500）
• 基板转移手动开放式：手套箱（单个或多个工具配置）
• 工艺模块尺寸宽x深x高（大约）：862mmX1002.7mmX1063mm
• 所需电源（基于选项）：208-240VAC，50-60Hz，单相，3线
• 工艺泵：>14CFM化学系列推荐

Kurt J. Lesker Company ALD-150LE原子层沉积系统使用方法：

1. 设备准备：确保ALD-150LE系统处于正常工作状态，连接电源和气体源。
2. 样品准备：将待处理样品固定在反应腔内，确保样品表面清洁。
3. 设置参数：根据实验需求设置温度、压力、气体流量和沉积时间。
4. 气体选择：选择合适的前驱体气体和辅助气体（如惰性气体），并进行系统预热。
5. 开始沉积：启动沉积过程，系统将自动进行气体脉冲和真空抽取。
6. 监测过程：实时监控沉积过程中的压力和温度变化，确保实验条件稳定。
7. 数据记录与分析：完成沉积后，记录实验参数，使用相关软件进行数据分析。

Kurt J. Lesker Company ALD-150LE原子层沉积系统有哪些实验室在用：

• 浙江大学材料科学与工程学院：半导体薄膜材料的原子级沉积与表征
• 华中科技大学材料科学与工程学院：先进微电子器件结构的制备与性能研究
• 中国科学院长春应用化学研究所：高介电常数、宽禁带半导体材料的开发
• 中国科学院电工研究所：功能性纳米薄膜在光电子、能源等领域的应用
• 中国科学院武汉物理与数学研究所：新型二维材料及其异质结构的制备与表征

Kurt J. Lesker Company ALD-150LE原子层沉积系统售后服务支持：

• 专业安装调试：由公司认证的工程师负责现场安装和调试，确保设备能快速投入使用并达到最佳性能。
• 技术培训支持：提供系统操作、维护保养等方面的专业培训，帮助用户快速掌握设备的各项功能。
• 全天候技术支持：建立7x24小时的技术咨询热线，及时解答用户在使用过程中遇到的问题。
• 快速维修服务：拥有经验丰富的维修工程师团队，提供快速响应和现场维修服务。
• 备件及时供应；备有常用备件库存，能及时满足更换需求，确保设备长期稳定运行。
• 免费软件升级：定期推出软件版本更新和功能优化，帮助用户获得最新的技术支持。
• 延长质保政策：标配1年质保，可根据需求提供延长服务，保修期内免费提供维修和配件更换。

相关产品：

扫描电子显微镜 (SEM)：用于观察沉积薄膜的表面形貌和微观结构。

原子力显微镜 (AFM)：进行薄膜表面粗糙度和形貌的高分辨率分析。

X射线衍射仪 (XRD)：分析沉积薄膜的晶体结构和相组成。

傅里叶变换红外光谱仪 (FTIR)：研究薄膜的化学成分和官能团。

热重分析仪 (TGA)：测量薄膜的热稳定性和质量变化。

气相色谱仪 (GC)：分析沉积过程中产生的气体反应产物。

Kurt J. Lesker Company ALD-150LE原子层沉积系统是一款功能强大的设备，通过精确控制沉积过程，该系统能够满足科研人员对薄膜制备的高要求，并与多种分析仪器联用，提供全面的实验数据支持。