ZEISS EVO LS10扫描电子显微镜

 

EVO LS10扫描电子显微镜采用先进的TTL和BeamSleeve技术设计，可在变压(VP)模式下实现无与伦比的更好图像质量。大型5轴平台、标配低真空模式、各种可选附件，由最新一代OptiBeam软件很大程度上自动控制。每个电子光学镜头都有独立的独立电源。

科研实验应用：1、材料科学：观察和分析金属、合金、陶瓷和复合材料的微观结构、相分布和缺陷；2、生物医学：观察生物样品的细胞结构、组织形态和病理特征，帮助进行疾病研究；3、半导体行业：用于微电子器件的缺陷分析、表面结构观察和工艺开发；4、纳米技术：研究纳米材料的形貌、尺寸和分布特性。

ZEISS EVO LS10扫描电子显微镜参数：

允许	3纳米（2纳米）	@30kV，SE，W(LaB6)
	4.5纳米	@30kV，BSD（VP模式）
	15纳米	@30kV，1nA，LaB6
	20纳米（15纳米）	@1kV，SE，W(LaB6)
	10纳米	@3kV，SE
加速电压	0.2–30kV
增加	<7–1,000,000x
视野尺寸	分析工作距离(AWD)为6毫米
X射线分析	8.5毫米AWD和35度探测器倾斜
OptiBeam®模式	分辨率、分析、景深、景深、鱼眼
压力范围	10–3000帕
可用探测器	BSD--背散射电子探测器
	ETSE–Everhart-Thornley二次电子探测器
	VPSE–VP模式的二次电子探测器
	EPSE–EP模式二次电子探测器
	SCD-采样电流计
	STEM–透射电子探测器（透射模式）
	CL-阴极发光检测器
样品室	310毫米（直径）x220毫米（高）
5轴电动样品台	X=80毫米，Y=100毫米，
	Z=35毫米，T=-10°+90°，
	R=360°（连续）
	鼠标控制
	或额外的操纵杆和
	从控制面板
最大样品高度	100毫米
可能的修改	BeamSleeve®，扩展压力(EP)模式，水蒸气注入腔室
图像尺寸	3072x2304点，单次累积和连续显示模式
控制系统	SmartSEM®GUI鼠标和键盘控制
	Windows®XP多语言操作系统
附加信息	电源：100–240V，50或60Hz单相，风冷

ZEISS EVO LS10扫描电子显微镜使用方法：

1. 设备准备：确保显微镜连接到电源，启动设备并进行自检。
2. 样品准备：根据样品类型进行处理（如金属样品需镀金），确保样品表面光滑且清洁。
3. 样品安装：将样品固定在样品台上，确保其稳定且位置正确。
4. 设置显微镜参数：调整加速电压、束流和工作距离，选择适合样品的成像模式（如二次电子成像或背散射电子成像）。
5. 进行成像：启动显微镜并调整焦距，观察样品表面，获取高分辨率图像。
6. 数据记录与分析：保存图像并进行必要的图像处理与分析，提取所需的科学数据。
7. 清理与维护：使用后清洁样品台和显微镜，定期检查和维护设备以确保最佳性能。

ZEISS EVO LS10扫描电子显微镜有哪些实验室在用：

• 武汉大学材料科学与工程学院：应用于生物医用材料的微观形貌分析
• 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院：用于航天航空先进复合材料的微观结构表征
• 中国科技大学材料科学与工程学院：应用于新型光电子功能材料的微观形貌分析
• 重庆大学材料科学与工程学院：用于能源与环境材料的微观结构表征
• 华南理工大学材料科学与工程学院：应用于纳米技术相关材料的微观形貌分析

ZEISS EVO LS10扫描电子显微镜售后服务支持：

• 电话和在线支持：用户可以通过电话或在线平台获得技术咨询和问题解答。
• 故障排查：提供故障诊断和解决方案，帮助用户快速恢复设备的正常运行。
• 定期检查：定期进行设备检查和校准，确保显微镜性能稳定。
• 维修服务：提供现场或返厂维修服务，解决设备故障。
• 用户培训：为用户提供仪器操作和应用的培训，确保用户熟悉设备的功能和操作流程。
• 技术研讨会：定期组织技术研讨会和培训课程，以提升用户的专业技能和知识。
• 原厂配件：提供原厂认证的配件和耗材，确保设备的高效运行和长期稳定性。
• 快速供货：对于常用配件，提供快速供货服务，减少用户的等待时间。

相关产品：

能谱仪（EDS）：结合能谱仪进行元素分析，获取样品的成分信息。

X射线衍射仪（XRD）：用于分析样品的晶体结构，提供更全面的材料特性。

光学显微镜：用于初步观察样品，确定样品特性后再进行 SEM 测试。

样品制备设备：包括离子磨削机和冷冻切片机等，用于样品的预处理和制备。

数据分析软件：使用相关软件进行图像分析和定量研究。