科晶 VTC-200旋转涂膜机

 

科晶 VTC-200旋转涂膜机真空工作环境，可避免空气中杂质对涂膜过程的污染，采用无刷直流电机驱动，能精确控制转速和加速度。带有旋转臂以及样品固定装置，能实现均匀涂布。配备温控系统，可根据实际需求设置温度。具有程序控制功能，可编辑设置多段转速和时间，附带真空监测及保护系统，确保稳定可靠的涂膜过程。

科研实验应用：1、薄膜材料研究：制备各种无机、有机、金属等薄膜材料；2、光电子器件制备：制备有机发光二极管、太阳电池、传感器等器件的关键薄膜层；3、生物医疗材料研究：生物相容性评价的各种生物功能性薄膜；4、涂层工艺优化：优化各类功能性涂层材料的涂覆工艺参数。

科晶 VTC-200真空旋转涂膜机技术参数：

• 供电接口：带保险电源插座：AC220/110V50/60Hz保险管规格为10A、φ5×20mm
• 总功率：≤150W
• 载样盘（吸盘+挡片）：φ153mm聚丙烯真空吸盘1个：6寸（φ153mm）样品挡片1套8寸（φ203.5mm）样品挡片1套
• 运行方式：逆时针旋转设有两个运行阶段
• 涂膜转速：SPD1转速：500-6000RPM有效；SPD2转速：500-6000RPM有效
• 涂膜时间：T1时间：1--600s有效T2时间：1--600s有效
• 转速稳定性：±1%
• 控制方式：PCB单片机按键控制数码管显示
• 产品规格：外形尺寸：500mm×350mm×400mm

科晶 VTC-200真空旋转涂膜机使用方法：

• 清洁并预处理好待涂覆的基底或材料样品。
• 将样品放置在旋转臂上的固定装置上，确保稳定固定。
• 设置所需的真空度，一般在0.1Pa左右。
• 设置旋转速度，根据实际需求在500-6000rpm范围内调整。
• 设置旋转时间，通常为10-120秒。
• 如有需要，可设置加热温度，一般在20-150°C之间。
• 启动真空抽气系统，待真空度稳定后开启旋转电机。
• 在旋转过程中，可适当调整温度以满足实验需求。
• 旋转结束后，关闭真空和电机，小心取出涂覆好的样品。

科晶 VTC-200真空旋转涂膜机有哪些实验室在用：

• 中国科学院上海微电子技术研究所等科研机构实验室
• 清华大学微电子学院实验楼
• 中国科学技术大学先进技术研究院实验室
• 同济大学工程材料与表面工程国家重点实验室
• 武汉理工大学材料科学与工程学院实验中心

科晶 VTC-200真空旋转涂膜机售后服务支持：

• 在质保期内，如果出现质量问题，客户可以免费维修或更换相关部件。
• 提供完善的使用说明和维护手册，指导客户正确使用和保养设备。
• 设有专业的技术支持团队，可通过电话或邮件等方式提供技术咨询和故障排除服务。
• 备有各类易损件和耗材，如真空膜片、转子轴承等，确保客户可及时购买更换。
• 针对新购客户，提供设备操作和维护培训，确保客户能够熟练掌握设备使用技巧。
• 对于已使用客户，也可根据需求提供专业培训服务，帮助优化实验流程。
• 可根据客户需求提供定期维护服务，包括清洁、校准、保养等。

相关产品：

真空泵：为涂膜腔室提供所需真空环境。

温控系统：可对涂膜过程中的温度进行精确控制。

计时装置：监测旋转时间,保证涂膜时长精确。

观测窗：可观察涂膜过程中样品的状态变化。

数据采集系统：记录和分析涂膜过程的各项参数。