HITACHI SU9000场发射扫描电子显微镜

 

SU9000场发射扫描电子显微镜在30kV下，二次电子分辨率可达0.4nm，在1kV下为1.2nm，适合观察纳米级别的样品。样品位于物镜极靴的上下间隙中，确保最佳的成像质量和稳定性。配备2+2探测系统，支持表面、成分和透射观察，在低电压下（如1kV）仍能保持高分辨率，适合观察电子束敏感样品。

科研实验应用：1、材料科学：用于金属、陶瓷和聚合物等材料的微观结构分析；2、半导体研究：观察半导体器件的表面形貌和故障分析；3、生物医学：用于生物样品的形貌观察和成分分析；4、纳米技术：分析纳米材料的形态和组成；5、催化剂研究：研究催化剂的微观结构和性能。

HITACHI SU9000场发射扫描电子显微镜技术参数：

项目			技术指标
二次电子分辨率			0.4nm （加速电压30kV，放大倍率80万倍）
			1.2nm （加速电压1kV，放大倍率25万倍）
STEM分辨率			0.34nm（加速电压30kV，晶格象）
观测倍率			底片输出	显示器输出
LM模式			80~10,000x	220~25,000x
HM模式			800~3,000,000x	2,200~8,000,000x
样品台		侧插式样品杆
样品移动行程	X		±4.0mm
	Y		±2.0mm
	Z		±0.3mm
	T		±40度
标准样品台			平面样品台：5.0mm×9.5mm×3.5mmH
			截面样品台：2.0mm×6.0mm×5.0mmH
专用样品台			截面样品台：2.0mm×12.0mm×6.0mmH
			双倾截面样品台：0.8mm×8.5mm×3.5mmH
信号检测器			二次电子探测器
			TOP 探测器（选配）
			BF/DF 双STEM探测器（选配）

HITACHI SU9000场发射扫描电子显微镜使用方法：

1. 设备检查：确保显微镜处于良好状态，检查电源、真空系统和电子枪是否正常工作。
2. 样品准备：将待观察样品固定在样品台上，确保样品表面清洁且适合电子束照射。
3. 开机：打开显微镜电源，启动系统，等待系统自检完成。
4. 预热：根据设备要求，预热电子枪和真空系统，通常需要几分钟以达到最佳工作状态。
5. 侧插式样品台：使用侧插式样品台将样品放入显微镜中，确保样品正确对齐并固定。
6. 调整样品位置：通过控制面板调整样品位置，使其位于电子束的焦点范围内。
7. 选择模式：根据实验需求选择合适的观察模式（如二次电子成像SE或透射电子成像STEM）。
8. 调整加速电压：设置适当的加速电压（如30kV），以获得最佳分辨率（SU9000在30kV下的分辨率可达0.4nm）。
9. 启动扫描：启动电子束扫描，观察实时图像。
10. 调整焦距：根据需要调整焦距和对焦，以获得清晰的图像。
11. 图像捕获：使用控制面板捕获所需的图像，保存数据以供后续分析。
12. 数据分析：利用配套软件进行数据处理和分析，生成报告。

HITACHI SU9000场发射扫描电子显微镜哪些实验室在用：

• 清华大学：用于材料科学研究，分析金属和非金属材料的微观结构。
• 中科院物理研究所：在半导体器件的故障分析中应用。
• 复旦大学：用于生物医学研究，观察生物样品的微观特征。
• 南昌大学：在纳米材料研究中进行形态和成分分析。
• 华东理工大学：用于催化剂的微观结构和性能研究。
• 北京大学：在环境科学研究中分析污染物的微观结构。

HITACHI SU9000场发射扫描电子显微镜售后服务支持：

• 电话与在线支持：提供专业的技术咨询，解答用户在操作和维护过程中遇到的问题。
• 现场服务：技术人员可根据需要到现场进行设备检查和故障排除。
• 故障诊断与维修：快速响应用户的维修请求，进行故障诊断和必要的维修。
• 更换零部件：提供原厂零部件的更换服务，确保设备的稳定性和长期使用。
• 操作培训：为用户提供设备操作培训，确保用户能够熟练使用仪器。
• 固件与软件升级：定期提供软件和固件的更新服务，以保证设备功能的最新和最佳性能。
• 用户手册：提供详细的用户手册和操作指南，帮助用户更好地理解和使用设备。
• 技术文献：提供相关的应用文献和案例分析，支持用户的研究和开发工作。

相关产品：

能谱仪（EDS）：用于元素成分分析，提供样品的化学组成信息。

背散射电子衍射仪（EBSD）：用于晶体取向和微观织构分析，适合材料科学研究。

激光共聚焦显微镜：用于样品的三维形貌分析，结合SEM数据进行综合研究。

离子刻蚀机：用于样品表面处理，改善观察效果。

超声波清洗机：用于清洗样品，确保样品表面无污染。

高效液相色谱仪（HPLC）：用于样品的化学分析，提供与SEM数据互补的信息。