HITACHI SU8230场发射扫描电子显微镜

 

SU8230场发射扫描电子显微镜分辨率可达0.8nm（在15kV下）和1.1nm（在1kV下）。放大倍率范围从20X到1,000,000X，适用于不同观察需求。多种加速电压适合多种样品类型。冷场发射电子枪提供高稳定性和亮度，多种探测器配置，包括二次电子探测器、背散射电子探测器和能谱探测器（EDS），可进行元素分析和晶相分析。

科研实验应用：1、材料科学：用于观察材料的微观结构和成分分析；2、生物医学：观察生物样品的细微结构，进行细胞形态学研究；3、纳米技术：用于纳米材料的形貌和成分分析；4、环境科学：分析环境样品中的微小颗粒和污染物；5、电子材料：研究半导体和其他电子材料的微观特性。

HITACHI SU8230场发射扫描电子显微镜参数：

• 分辨率：0.8nm@15kV，工作距离为4.0mm；1.1nm@1.0kV，工作距离为1.5mm
• 着陆电压范围为0.01至2kV（0.01-1kV，步长10V；1.0-2.0kV，步长100V）
• 放大倍率：高放大模式100X至1,000,000X；低放大模式：20X至2000X
• 加速电压范围：0.01kV至30kV
• 束流模式：具有束流减速模式，允许在0.01至2kV的范围内操作
• 样品室尺寸：6英寸样品室，集成LN2冷却系统
• 载物台：5轴电动载物台。
• 非低温模式：X/Y移动范围为0-110毫米；Z：1.5-40毫米；倾斜：-5至+70；旋转：360
• 低温模式：X/Y轴移动范围约为+/-9毫米；Z轴：1.5-40毫米；倾斜：Z=8毫米或更大时倾斜30度；5毫米时倾斜15度；1.5毫米时倾斜0度

HITACHI SU8230场发射扫描电子显微镜使用方法：

1. 样品准备：确保样品干燥且无挥发性物质，固定在样品台上。
2. 开机：打开电源，检查各项指示灯是否正常。
3. 设置参数：根据样品类型选择合适的加速电压和放大倍率。
4. 成像：通过控制软件进行成像，调整焦距和对比度以获得最佳图像。
5. 数据采集：使用EDS等探测器进行元素分析，记录数据。
6. 图像处理：对采集的图像进行处理和分析，生成报告。

HITACHI SU8230场发射扫描电子显微镜有哪些实验室在用：

1. 西安交通大学：用于材料微观结构的观察与分析。
2. 清华大学：应用于纳米材料的形貌研究。
3. 北京大学：用于生物样品的细胞形态学研究。
4. 厦门大学：分析环境样品中的微小颗粒。
5. 中山大学：研究电子材料的微观特性。
6. 宁波大学：用于矿物样品的微观结构分析。

HITACHI SU8230场发射扫描电子显微镜售后服务支持：

• 服务内容：提供专业的安装和调试服务，确保设备正常运行。
• 定期维护：建议每年进行一次全面的维护，包括硬件检查和软件更新。
• 校准服务：按照国际标准对设备进行校准，保证测试结果的准确性。
• 热线支持：提供24小时技术热线，解决用户在使用过程中遇到的技术问题。
• 在线支持：通过邮件和在线聊天工具提供技术咨询。
• 原厂配件：提供原厂认证的配件和耗材，确保设备的长期稳定运行。
• 用户培训：为操作人员提供设备使用和维护的培训，确保用户熟练掌握操作技能。
• 定期研讨会：定期举办用户交流会，分享最佳实践和最新技术。

相关产品：

能谱仪（EDS）：用于元素成分分析。

透射电子显微镜（TEM）：用于高分辨率成像和晶体结构分析。

扫描透射电子显微镜（STEM）：用于样品的透射成像和成分分析。

激光共聚焦显微镜：用于样品表面的高分辨率成像。

原子力显微镜（AFM）：用于样品表面形貌的三维成像。

X射线衍射仪（XRD）：用于材料的晶相分析。