FEI Tecnai G2 F20 S-Twin 200keV电子显微镜

 

Tecnai G2 F20 S-Twin 200keV电子显微镜支持多种成像模式,加速电压200kV,放大倍数25倍至1,030,000倍。高亮度场发射电子枪(FEG),能够提供极高的分辨率,配备高角环形暗场探测器(HAADF),能够进行高角度成像,适用于复杂样品的分析。

FEI Tecnai G2 F20 S-Twin 200keV电子显微镜

科研实验应用:1、材料科学:用于分析材料的微观结构和成分;2、生物医学:用于观察细胞和生物大分子的超微结构;3、纳米技术:用于纳米材料的形貌和性能研究;4、化学:用于化学反应中样品的微观分析;5、物理学:用于研究材料的晶体结构和相变。

FEI Tecnai G2 F20 S-Twin 200keV电子显微镜技术参数:

电子源

  • 柔性高压输电线(20、40、80、120、160、200kV及介于两者之间的值)
  • 肖特基场发射体,最大束流高(>100nA)
  • 高探测电流(1nm探测中为0.5nA或更高)
  • 能量分散小(0.7eV或更小)
  • 光斑漂移<1纳米/分钟

标本台

  • 全计算机控制、同心侧入、高稳定性CompuStage
  • 最大化任意X、Y、Z、α和β组合的倾斜度
  • 多种试样支架可供选择
  • X、Y轴移动±1毫米,Z轴移动±0.375毫米;试样尺寸3毫米
  • 样本召回重现性:≤0.3μm(x和y方向移动300μm后)和≤0.1(α倾斜)
  • 使用标准支架可实现漂移≤0.5纳米/分钟

S-Twin物镜

  • 信息限值(nm)0.14
  • 扩展分辨率(nm)0.16
  • 最小聚焦步长(nm)1.8
  • TEM放大倍数范围25x-1,030kx
  • 相机长度(毫米)30-4,500
  • 最大衍射角±13°
  • STEMHAADF分辨率(nm)0.19
  • STEM放大倍数范围150x-230Mx
  • 双倾斜支架的最大倾斜角度±40°
  • 断层扫描支架的最大倾斜角度±80°
  • EDS立体角(srad)0.13

FEI Tecnai G2 F20 S-Twin 200keV电子显微镜使用方法:

  1. 准备工作:确保样品均匀分散在支持膜上并干燥。检查仪器的状态,确保所有组件正常工作。
  2. 设置仪器:开机并选择合适的加速电压(200 kV)。调整样品持有器,确保样品处于正确位置。
  3. 成像:选择成像模式(如明场、暗场或高分辨成像)。调整焦距和放大倍数,获取清晰的图像。
  4. 数据采集:进行选区电子衍射(SAED)以获取晶体结构信息。使用能谱分析(EDS)获取样品的元素组成。
  5. 结果分析:记录和分析获取的图像和数据。使用相关软件进行数据处理和结果展示。
  6. 清洁与维护:关闭仪器并进行必要的清洁。定期检查和维护仪器以确保其长期稳定运行。

FEI Tecnai G2 F20 S-Twin 200keV电子显微镜有哪些实验室在用:

  • 南开大学元素有机化学国家重点实验室:用于材料微观结构分析。
  • 复旦大学材料科学与工程学院:用于纳米材料的形貌和性能研究。
  • 北京工业大学:用于生物大分子的超微结构成像。
  • 吉林大学:用于固体材料的微区形貌和结构分析。
  • 中国科学院生物物理研究所:用于细胞器的超微结构分析。
  • 上海微系统与信息技术研究所:用于电子器件材料的分析。

FEI Tecnai G2 F20 S-Twin 200keV电子显微镜售后服务支持:

  • 电话与在线支持:提供专业的技术咨询,解答用户在操作和维护过程中遇到的问题。
  • 现场服务:技术人员可根据需要到现场进行设备检查和故障排除。
  • 故障诊断与维修:快速响应用户的维修请求,进行故障诊断和必要的维修。
  • 更换零部件:提供原厂零部件的更换服务,确保设备的稳定性和长期使用。
  • 操作培训:为用户提供设备操作培训,确保用户能够熟练使用仪器。
  • 固件与软件升级:定期提供软件和固件的更新服务,以保证设备功能的最新和最佳性能。
  • 用户手册:提供详细的用户手册和操作指南,帮助用户更好地理解和使用设备。
  • 技术文献:提供相关的应用文献和案例分析,支持用户的研究和开发工作。

相关产品:

扫描电子显微镜(SEM):用于材料表面形貌的观察。

X射线衍射仪(XRD):用于材料的晶体结构分析。

能谱仪(EDS):用于样品元素组成的定量分析。

激光共聚焦显微镜:用于生物样品的三维成像。

傅里叶变换红外光谱仪(FTIR):用于材料的化学成分分析。

质谱仪(MS):用于样品的分子量和结构分析。

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