看着就兴奋，3D纳米激光直写！浙江大学 微纳光刻芯片新成果

来自 实验室仪器网

浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室发布重大成果，成功研制万通道3D纳米激光直写光刻机，突破传统微纳加工技术瓶颈，加工速度与精度均达国际领先水平，为超分辨光刻、光子芯片制造、高端掩模版加工等关键领域提供自主可控核心装备支撑。

双光子激光直写技术凭借高分辨率、低热效应、无掩模及真三维加工能力，成为芯片制造、光存储、微流控、精密传感等领域的前沿核心技术。但传统单通道激光直写设备存在加工速度瓶颈，无法满足高精度、大面积微纳结构的产业化制造需求，制约高端微纳加工产业发展。

针对这一行业痛点，浙大研发团队创新采用双光子激光直写技术，提出数字微镜协同微透镜阵列光场调控方案，实现颠覆性技术突破。该方案可在加工系统中生成1万余个可独立控制的激光焦点，每个焦点能量能完成169阶以上精细调节，真正实现多通道并行独立加工，相当于“同时用1万支笔书写1万个不同文字”，从根本上破解速度瓶颈。

团队同步研发自适应匀化算法、并行条带扫描、并行灰度体曝光等核心加工策略，进一步优化设备性能。经测试，该光刻机打印速率高达2.39×10⁸体素/秒，加工精度达到亚30纳米级别，加工速率达42.7平方毫米/分钟，最大刻写尺寸可覆盖12英寸硅片，完美兼顾高精度与大面积加工需求。

浙大万通道3D纳米激光直写光刻机的成功研制，填补了我国高端3D纳米激光直写装备的技术空白，破解了大面积微纳结构高通量、高精度制造的行业难题。该装备不仅能广泛应用于光子芯片、微流控芯片、精密光学器件等核心产品制造，更推动我国微纳加工技术迈向国际顶尖水平，为高端制造、集成电路、光子产业等战略领域的自主创新发展筑牢关键装备根基。

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