KELISONIC KL-020S超声波清洗机

 

KELISONIC KL-020S超声波清洗机内槽容量为3.2升，40kHz的工业型超声波换能器，能够有效清除细小颗粒和污垢，内槽采用SUS304不锈钢材料，耐腐蚀，易于清洁和维护，具备过热保护功能，确保设备在使用过程中的安全性。

科研实验应用：1、生物医学研究：清洗实验器材、试管、培养皿等，去除生物残留物；2、化学分析：清洗化学试剂瓶和其他玻璃器皿，避免交叉污染；3、材料科学：清洗金属样品、陶瓷和塑料制品，去除表面污垢和杂质，确保材料特性测试的准确性；4、电子行业：用于清洗电路板和电子元件，去除焊接残留、灰尘和其他污染物。

KELISONIC KL-020S超声波清洗机技术参数：

• 超声功率：120W
• 超声频率：40KHz
• 加热功率：100W
• 内槽容量：3.2L（6.5L以上配排水阀）
• 工作液温：20-80℃范围内（数码式温度时间控制系统）
• 内槽尺寸：240*135*100mm（LxWxH）
• 外形尺寸：265*165*220mm（LxWxH）
• 内槽材料：SUS304不锈钢冲压槽体
• 外壳材料：不锈钢花纹板
• 电源电压：AC220~240V，50Hz/AC100~120V，60Hz
• 标准配件：不锈钢清洗篮（KG20），盖子（FT20），电源线（AC220）

KELISONIC KL-020S超声波清洗机使用方法：

1. 设备准备：将超声波清洗机放置于稳固的工作台上，确保通风良好，并连接电源。
2. 清洗液准备：根据清洗需求选择合适的清洗液，如去离子水、醇类或专用清洗剂。
3. 样品装载：将待清洗的样品放入清洗槽中，确保样品间隔适当，避免相互接触。
4. 设置参数：根据样品材料和清洗液设置适当的清洗时间和温度。一般推荐的清洗时间为3-10分钟。
5. 启动清洗：启动清洗机，观察清洗过程，确保无异常声响或震动。
6. 结束清洗：清洗完成后，关闭设备，取出样品，并用去离子水冲洗以去除清洗液残留。
7. 清洁与维护：使用后及时清洁超声波清洗槽，避免污垢积聚，定期检查设备，确保良好的工作状态。

KELISONIC KL-020S超声波清洗机有哪些实验室在用：

• 清洗水样和土壤样品的处理器材，以获取准确的环境数据，确保监测结果的可靠性。
• 中国科学院微电子研究所半导体器件实验室：清洁微电子元器件和光电器件表面污染物
• 北京大学电子学院微纳制造实验室：去除薄膜沉积等过程中残留的有机溶剂
• 华中科技大学光学与电子信息学院薄膜制备实验室：预处理晶圆表面以提高薄膜沉积的均一性
• 清华大学材料科学与工程学院微纳制造实验室：去除材料加工过程中残留的切削液、抛光液等
• 浙江大学材料科学与工程学院表面工程实验室：预处理材料样品以备进一步的分析表征

KELISONIC KL-020S超声波清洗机售后服务支持：

• 提供24小时服务热线，解答用户在使用过程中遇到的技术问题。
• 通过电子邮件和在线支持平台，提供技术指导和操作建议。
• 定期组织培训课程，帮助用户熟悉设备的操作和维护要求。
• 提供详细的用户手册和操作视频，确保用户掌握正确的使用方法。
• 提供定期的设备检查服务，确保超声波清洗机运行在最佳状态。
• 检查清洗槽、超声波发生器及电源线的完整性。
• 根据设备使用情况，提供必要的保养和维护服务，延长设备使用寿命。
• 提供设备性能校准服务，确保清洗效果的稳定性和可靠性。

相关产品：

电子天平：用于准确称量样品和清洗液，以确保实验的精确性。

超声波探测器：用于监测清洗效果，确保清洗过程的有效性。

干燥器：用于清洗后样品的快速干燥，避免水分残留。

pH计：在清洗液的选择和监测中，确保清洗效果的最佳化。

化学分析仪器：用于分析清洗后样品的成分，确保清洗效果和实验数据的可靠性。