Buehler Automet250抛光机

 

Automet 250抛光机兼容直径达1.5英寸/40毫米的样品，简单的薄膜控制面板可轻松进行工艺设置，借助ApexS和磁性抛光器系统，可以快速更换抛光盘和抛光布。采用多达5个可连接的爆裂金刚石自动进料装置，可提高均匀性并控制悬浮液的使用。

科研实验应用：1、材料表面准备：用于样品的初步和最终抛光，确保样品表面平滑，适合后续分析；2、金相分析：在金属和合金研究中，抛光可以帮助观察材料的显微结构和相分布；3、半导体材料研究：在多晶硅、单晶硅等半导体材料的制备和表征中，抛光确保样品的高光洁度；4、缺陷检测：用于识别和评估材料表面的缺陷，如划痕、气孔和晶界等。

Buehler Automet250抛光机技术参数：

电源	100-240VAC，50/60Hz，单相
抛光机电机输出	1马力[750瓦]
抛光盘尺寸	203毫米[8英寸]、254毫米[10英寸]
抛光速度	10-500rpm每10rpm带上下键
抛光盘旋转方向	顺时针/逆时针
供水管道尺寸	0.25英寸[6毫米]外径管
供水压力	40-100psi[25-60bar]
功耗（基本）	1.1kW，9.6/4.8A@115/230VAC
功耗（底座+头部）	1.73kW，15/7.5A@115/230VAC
控制面板规格	(膜)LED显示(3位显示)
控制面板规格	（触摸屏）
噪音量（基础）	59.5dB@100rpm
噪音量（底座+头部）	61.5dB@100/30rpm
毛重	77公斤[170磅]
头输出	0.156马力[116瓦]
头部旋转速度	30-60rpm 可按10rpm增量设置
总负载	5-60磅[20-260N] 每1Lbs[5N]带向上和向下键
单独负载	1-10Lbs[5-45N] 每1Lbs[5N]带向上和向下键
样本量（总负载）	1英寸、1.25英寸、1.5英寸、25毫米、30毫米、40毫米等
样本量（单个负载）	1英寸、1.25英寸、1.5英寸、25毫米、30毫米、40毫米
供气管道尺寸	0.25英寸[6毫米]外径管
供气压力	35磅/平方英寸[2.4巴]
功耗（头）	630W，5.5/2.7A@115/230VAC
重量	70磅[32公斤]
适用法律法规	CE；EC适用指令

Buehler Automet 250抛光机使用方法：

1. 设备检查与准备：检查设备的电源、磨盘和抛光布是否正常，确保所有组件完好。
2. 样品准备：将待抛光的样品清洗干净，确保没有灰尘和污染物。
3. 样品安装：将样品固定在样品夹具上，确保其稳定性。
4. 选择抛光盘和抛光液：根据样品类型选择适当的抛光盘和抛光液，确保与材料兼容。
5. 设定抛光参数：在控制面板上设定抛光速度、时间和压力等参数。
6. 启动抛光程序：启动设备，监控整个抛光过程，确保样品均匀受力。
7. 结束抛光并清理：抛光完成后，取出样品并清理抛光盘，保持设备整洁。
8. 样品检查：使用显微镜等设备检查样品表面质量，评估抛光效果。

Buehler Automet 250抛光机有哪些实验室在用：

• 中国科学院金属研究所材料制备实验室
• 北京科技大学材料科学与工程学院材料工艺实验室
• 武汉理工大学材料科学与工程学院材料制备中心
• 中国科学院微电子研究所半导体工艺实验室
• 清华大学电子工程系微电子制造中心
• 北京大学微电子学院集成电路实验室

Buehler Automet 250抛光机售后服务支持：

• 提供标准一定期限的保修，涵盖材料和工艺缺陷，可选购延长保修计划，保证长期使用质量。
• 提供专业的技术支持热线，快速响应用户问题，建立广泛的服务网络，就近安排维修人员上门服务。
• 备有充足的原厂备件库存，确保及时供应，提供在线备件订购服务，方便用户补充耗材。
• 定期举办产品培训班，教授正确的操作和维护方法，为用户提供专业的应用指导，优化使用效果。
• 持续推出软硬件升级方案，满足用户新需求，为老旧设备提供改造服务，延长使用寿命。
• 可远程诊断设备状态，提供在线故障排除指导，支持网络升级和远程控制，优化设备性能。

相关产品：

光学显微镜：用于观察抛光后的样品表面特征和缺陷。

扫描电子显微镜 (SEM)：进行更高分辨率的表面分析，结合抛光结果提供详细的微观结构信息。

X射线衍射仪 (XRD)：分析材料的晶体结构，结合抛光数据进行综合评估。

原子力显微镜 (AFM)：用于表征样品的表面粗糙度和形貌，补充抛光结果。

热重分析仪 (TGA)：评估样品的热稳定性，结合抛光分析材料的性能。