Kurt J. Lesker PVD75薄膜沉积系统

PVD75是一款模块化、全功能薄膜沉积系统，可容纳6个2英寸的磁控溅射源。该装置具有0.5mTorr（取决于材料）的低工作压力能力。可以通过薄膜厚度监测器即时监测涂层厚度。兼容高真空和超高真空，典型源到基片的距离为4″-6″(102-152mm)，可手动调节，可变速，电机驱动旋转压板（最高20rpm），1000W直流和300W射频。

科研实验应用：1、电子行业：用于制造半导体器件、导电薄膜和绝缘层；2、光电材料：在光学器件中沉积抗反射膜和反射膜；3、材料科学：研究和开发新型薄膜材料及其性能；4、表面工程：用于改善材料表面特性，如耐磨性和抗腐蚀性；5、纳米技术：制备纳米级薄膜，探索其在各类应用中的特性。

Kurt J. Lesker PVD75薄膜沉积系统技术参数：

箱体：304L不锈钢腔体
内部尺寸：387.4毫米x419.1毫米x609.6毫米
铝制、O形环密封、铰链、前检修门
热蒸发：最多4个4英寸独立船体或6个2英寸船体组件
TORUS磁控溅射源：最多6个2英寸或3英寸光源，最多四个4英寸信号源
电子束蒸发源：4口袋8个信用卡位，8口袋12个信用卡，6口袋20cc
LTE10有机沉积源：最多两个10cc源
底物操控：旋转、加热、冷却、偏置、负载锁兼容
电源：DC、PDC、RF、MF和HIPIMS电源

沉积方向：

热蒸发：向上
TORUS磁控溅射源：向上、向下或侧向喷溅
电子束蒸发：向上
LTE有机沉积：向上

Kurt J. Lesker PVD75薄膜沉积系统使用方法：

设备检查与准备：确保 PVD75 系统连接到电源和气源，检查真空系统和气体流量控制是否正常。
样品准备：准备待沉积薄膜的基材，确保其表面清洁且无污染。
放置样品：将样品固定在样品台上，确保其位置符合沉积要求。
选择材料：根据实验需求选择合适的沉积材料（如金属、合金或陶瓷）。
设置沉积参数：在控制面板上设置沉积速率、压力、温度和沉积时间等参数。
启动真空系统：启动系统，抽真空至设定值，确保环境适合薄膜沉积。
开始沉积：启动薄膜沉积程序，观察沉积过程，确保各项参数正常。
监控沉积过程：实时监控沉积速率和膜厚，调整参数以优化沉积效果。
结束沉积：完成沉积后，关闭沉积源，恢复常压，并取出样品。

Kurt J. Lesker PVD75薄膜沉积系统有哪些实验室在用：

中国科学院微电子研究所集成电路工艺实验室
清华大学微电子学研究所新材料薄膜实验室
华为技术有限公司先进半导体制造中心
中国科学院电工研究所新能源材料实验室
北京理工大学能源与动力工程学院薄膜实验室
中国科学院化学研究所太阳能电池实验室

Kurt J. Lesker PVD75薄膜沉积系统售后服务支持：

在线支持：提供电话、电子邮件和在线支持平台，解答用户在操作和维护中的问题。
定期校准：建议用户定期进行设备校准，以确保沉积的薄膜质量和厚度的准确性。
维护服务：包括定期检查、清洁和必要的部件更换，确保设备的长期稳定运行。
操作培训：为新用户和现有用户提供培训，帮助其熟悉设备的操作、应用和最佳实践。
培训材料：提供用户手册、操作指南和在线培训资源，以支持用户的学习和使用。
便捷的备件采购：确保用户能够方便地购买所需的备件和耗材，提供及时的供应服务。
定期更新：根据需要提供设备控制软件的更新和升级，确保用户能够使用最新功能和修复。
满意度调查：定期收集用户反馈，以不断改进服务质量和用户体验。

相关产品：

表面分析仪：如扫描电子显微镜 (SEM) 或原子力显微镜 (AFM)，用于分析薄膜的表面形貌。

X射线衍射仪 (XRD)：用于研究沉积膜的晶体结构和相组成。

薄膜厚度测量仪：用于实时监测薄膜的厚度，确保达到预期规格。

气体分析仪：在沉积过程中监测气体成分和压力变化。

热重分析仪 (TGA)：评估薄膜在不同温度下的稳定性和热性能。