RSE MP-2B-T1研磨抛光机
MP-2B-T1研磨抛光机配备两个研磨抛光盘,可同时进行多种样品的处理,采用变频器调速技术,转速可调范围为50-1000转/分钟,配备冷却装置,防止在研磨抛光过程中产生过热,操作界面友好,方便用户调整速度和监控设备运行状态。
科研实验应用:适用于金属、塑料、陶瓷等多种材料的研磨和抛光,用于金属、塑料、电子元件、陶瓷等多种材料的研磨和抛光,广泛应用于材料科学、工业制造和实验室研究。
RSE MP-2B-T1研磨抛光机技术参数:
名称 | 研磨抛光机 |
模型 | MP-2B-T1 |
电源 | 交流220伏,50赫兹 |
磨盘速度 | 50-1000转/分钟 |
磨头速度 | 70转/分 |
工作盘直径 | 标准φ203毫米(可选φ200毫米,φ230毫米,φ250毫米) |
研磨方法 | 半自动 |
磨盘数量 | |
尺寸 | 710x670x300毫米 |
重量 | 46公斤 |
冷却系统 | 有 |
标准配置 | 金相砂纸6张 |
氧化铝抛光粉100g | |
排水管 | |
进水管 | |
2个铝合金圆盘 | |
2块抛光布 |
RSE MP-2B-T1研磨抛光机使用方法:
- 确保设备电源连接正常,检查冷却装置的水源和电源。
- 根据需要选择合适的研磨或抛光盘,并将其安装在设备上,确保固定牢固。
- 将待处理样品固定在研磨抛光盘上,确保样品稳固。
- 使用控制面板设置所需转速(50-1000转/分钟)和时间。
- 启动研磨抛光机,观察设备运行状态,确保无异常。
- 在研磨抛光过程中,定期检查样品和设备状态,确保冷却装置正常运作。
- 处理完成后,停止设备,取出样品,检查表面处理效果。
- 清理研磨抛光盘及周围环境,保持设备整洁。
RSE MP-2B-T1研磨抛光机有哪些实验室在用:
- 中国科学院西安硅酸盐研究所
- 中国科学院上海硅酸盐研究所
- 中兴通讯有限公司
- 中国电子科技集团公司第四十一研究所
- 深圳市深微机械设备有限公司
- 深圳市加华科技有限公司
- 西南科技大学材料科学与工程学院
RSE MP-2B-T1研磨抛光机售后服务支持:
- 客户服务热线:提供专业的技术支持热线,用户可咨询设备使用、故障排除和维护建议。
- 在线支持:通过官方网站或电子邮件获取在线技术支持,解答用户的常见问题。
- 维修中心:设有专门的维修中心,提供设备的专业维修和保养服务。
- 上门服务:在特定情况下,提供上门维修服务,以减少用户设备的停机时间。
- 定期维护指南:提供设备的定期维护和保养建议,以确保设备长期稳定运行。
- 故障排除手册:提供常见故障的排除指南,帮助用户快速解决基本问题。
- 用户反馈机制:鼓励用户对设备的使用体验进行反馈,以帮助改进产品质量和服务。
- 定期回访:定期与客户联系,了解设备使用情况,确保持续的技术支持。
相关产品:
超声波清洗机:用于清洗研磨抛光后的样品,去除表面残留物。
电子天平:用于精确称量样品,确保实验数据的准确性。
显微镜:用于观察样品表面处理后的微观结构,评估处理效果。
光谱仪:分析样品表面化学成分及物理性质。
数据记录软件:用于记录和分析实验数据,生成报告和图表。
文章标签:研磨抛光机mp 2b t1rse样品前处理及制备仪器 评论收藏分享
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