成越科学 CY-EVP500-EB离子源电子束蒸发镀膜仪

 

CY-EVP500-EB离子源电子束蒸发镀膜仪具备极限真空≤5×10^-5 Pa，确保在镀膜过程中减少气体污染，能够制备多种类型的薄膜，包括导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜和光学薄膜，能够处理高熔点材料，配备新型电子枪和膜厚监测系统，能够实现精确的蒸发速率和膜厚度控制，确保薄膜的均匀性和一致性。

科研实验应用：1、材料科学：用于研究和开发新型材料，特别是在薄膜材料的制备和性能测试方面；2、电子器件：在半导体器件的制造过程中，用于制备导电和绝缘薄膜；3、光学应用：用于光学薄膜的制备，如反射镜和抗反射涂层；4、生物医学：在生物传感器和医疗器械的表面处理上，提升材料的生物相容性；5、微纳加工。

成越科学 CY-EVP500-EB离子源电子束蒸发镀膜仪技术参数：

• 环境温度：5℃～40℃
• 电源：380V
• 功率：≤20KW
• 水压：≤2.5bar
• 蒸发室尺寸：φ500×H500(㎜)
• 过渡仓库：φ280×H300(㎜)
• 电子枪：新型电子枪1套，6穴坩埚
• 离子源：考夫曼离子源K08一套
• 样品转盘：样品尺寸：≤φ150mm，样品可旋转，也可上下升降调节样品到电子枪距离(样品托形状按用户要求设计),加热温度≤500℃
• 极限真空：经12～24小时烘烤，连续抽气≤5x10-5Pa
• 抽气速率：从大气开始40分钟内真空度≤5x10-4Pa
• 系统漏率：整机漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵关机12小时后，测量真空室真空度≤10Pa
• 抽真空系统：TY1200分子泵+机械泵(VRD-30)系统，并设置旁路抽气
• 镀膜监测：采用TM160膜厚仪进行监测
• 镀膜厚度的不均匀度：≤3%tml

成越科学 CY-EVP500-EB离子源电子束蒸发镀膜仪使用方法：

1. 准备工作：确保设备安装在平稳的工作台上，连接电源和气源。
2. 样品准备：根据实验需求准备待镀膜的基材，确保基材表面清洁。
3. 设置参数：在控制面板上设置蒸发材料、蒸发速率和膜厚度等参数。
4. 启动设备：开启设备，进行系统自检，确保各项功能正常。
5. 放置样品：将准备好的基材放入镀膜室，确保固定稳妥。
6. 开始蒸发：启动蒸发程序，监控蒸发过程，确保膜层均匀。
7. 结束操作：蒸发完成后，关闭设备，取出样品，清理镀膜室，准备下次使用。

成越科学 CY-EVP500-EB离子源电子束蒸发镀膜仪哪些实验室在用：

• 清华大学材料科学与工程系：用于新型薄膜材料的制备与性能测试。
• 复旦大学物理系：在半导体器件的研究中应用。
• 浙江大学光电科学与工程学院：用于光学薄膜的制备。
• 中国科学院物理研究所：在材料科学研究中进行薄膜制备。
• 南京大学化学与化工学院：用于生物传感器的表面处理。
• 华南理工大学微电子学院：在微纳加工技术研究中使用。

成越科学 CY-EVP500-EB离子源电子束蒸发镀膜仪售后服务支持：

• 在线支持：提供在线技术支持，用户可以通过电子邮件或官方网站提交问题。
• 电话支持：专业技术团队可通过电话为用户提供实时帮助。
• 保修期限：提供一定期限的保修服务，具体视购买协议而定。
• 现场维修：提供现场维修服务，确保设备快速恢复正常运行。
• 运输维修：若设备不能现场修复，可以安排运输至服务中心进行维修。
• 维护计划：提供定期维护服务，以确保设备的最佳性能和准确度。
• 校准服务：定期校准设备，确保测量结果的可靠性。
• 用户培训：提供设备操作培训，确保用户能够熟练使用仪器。
• 应用培训：针对特定应用提供培训，以帮助用户发挥设备的最大潜力。

相关产品：

高效液相色谱仪（HPLC）：用于分析镀膜样品中的化学成分。

扫描电子显微镜（SEM）：用于观察镀膜表面的微观结构。

X射线衍射仪（XRD）：用于分析薄膜的晶体结构。

原子力显微镜（AFM）：用于测量薄膜的表面粗糙度和形貌。

热重分析仪（TGA）：用于分析薄膜的热稳定性。

紫外可见分光光度计（UV-Vis）：用于测量薄膜的光学特性。