Ossila L20066浸渍提拉镀膜机

 

L20066浸渍提拉镀膜机高精度和可重复性的电机，可实现平滑的运动曲线。以不同的速率从溶液中取出基材，从低至0.01毫米/秒到高至50毫米/秒。集成软件可轻松设置，并允许选择手动或自动操作。独立设置浸入和提取属性，以创建恒定和可变的薄膜厚度。可以保存10个不同的程序，每个程序最多可存储20个例程，以涂覆多个基材，而无需每次重新配置设备。

科研实验应用：薄膜材料制备：用于制备各种材料的薄膜，如有机光电材料、半导体薄膜和涂层材料；2、纳米技术：在纳米材料研究中，制备均匀的纳米涂层，用于提升材料性能；3、光电器件：在光电器件（如OLED和太阳能电池）的研发中，浸渍提拉镀膜机用于制备活性层和电极薄膜；4、生物医学应用：用于制备生物兼容性薄膜，应用于药物释放系统和组织工程。

Ossila L20066浸渍提拉镀膜机参数：

最低提取速率	0.01毫米.秒-1
最高提取速率	50毫米秒-1
速率重复性	±0.01%@1毫米秒-1；±0.1%@10毫米秒-1；±0.3%@50毫米秒-1
最大行驶距离	100毫米
最大循环次数	1000次循环
定时器持续时间	99:59:59（时:分:秒）
集成的软件功能	可变的拔出速度、重复循环、碰撞检测
程序数量	20
电源	直流24伏
产品尺寸（宽x高x深）	200毫米x350毫米（完全伸展时为450毫米）x300毫米
重量	5.15公斤

Ossila L20066浸渍提拉镀膜机使用方法：

1. 准备工作：确保设备处于平稳的工作台面上，并连接电源和必要的气源。
2. 样品准备：清洁待镀膜的基材，确保表面无污染和杂质。
3. 设置参数：根据实验需求设置镀膜速度、浸泡时间和提拉高度等参数。
4. 浸泡过程：将基材放入溶液中，进行预设的浸泡时间，以确保均匀吸附。
5. 提拉操作：缓慢提拉基材，形成均匀的薄膜，记录提拉速度和高度。
6. 干燥和固化：根据所用材料，进行干燥或固化处理，确保薄膜固定在基材上。
7. 检测薄膜质量：使用显微镜或其他分析仪器检查薄膜的均匀性和厚度。

Ossila L20066浸渍提拉镀膜机有哪些实验室在用：

• 中国科学院上海有机化学研究所：制备功能材料样品。
• 中国科学院半导体研究所：制备半导体器件特定层。
• 华中科技大学微电子学院：辅助教学和科研实验。
• 中国科学院微电子研究所：制作微电子元器件原型。
• 北京理工大学新材料研究中心：制备新型功能性薄膜。
• 武汉大学半导体显示与照明国家重点实验室：制备OLED新材料。

Ossila L20066浸渍提拉镀膜机使用注意事项：

• 使用前需了解设备原理和操作细节，做好安全知识学习。
• 设备安装时要选择平稳工作台，防止震动影响效果。
• 操作时要加权轻巧，长时间操作需适度休息，避免损伤手部。
• 粘贴底片时要保证整体平整无褶皱，影响成膜均匀性。
• 清洁镀膜槽和每次更换源头前必须彻底清洗除尘。
• 调节拉孔速度和行程应在有效范围内操作。
• 定期校准厚度计以保证镀膜厚度控制准确。
• 起动前检查源头是否连接良好，镀膜过程关闭通风扇避免干扰。
• 处理有毒液体时要配备安全防护措施。
• 禁止随意翻修和修改设备进行改装。

相关产品：

分析天平：精确称量镀膜材料，以确保所用溶液的浓度准确。

显微镜：用于观察薄膜的表面形态和结构。

薄膜厚度测量仪：测量薄膜的厚度，确保满足实验要求。

光谱仪：用于分析薄膜的光学特性，如透过率和反射率。

干燥箱：在镀膜后用于干燥和固化薄膜材料。