中研 MPD-2W金相磨抛机
MPD-2W金相磨抛机采用双盘结构,能够同时进行研磨和抛光,具备0-1500转/分钟的无级调速功能,用户可以根据不同材料和需求自由调节转速。机身采用ABS整体注塑,具有耐冲击和耐腐蚀的特点,设计有密封式进出水结构,避免磨抛过程中冷却水和磨抛液的外溅,深磨样室设计有效防止磨抛液外溅。

科研实验应用:1、金属材料研究:用于金属及合金的显微结构分析,帮助研究材料的物理和化学特性;2、陶瓷材料测试:适用于陶瓷材料的磨抛,评估其微观结构和性能;3、岩石样本分析:用于岩相标本的磨抛,帮助地质学研究;4、表面处理研究:检测不同表面处理对材料性能的影响。
中研 MPD-2W金相磨抛机技术参数:
| 型号 | MPD-2W |
| 机体形式 | 台式双盘 |
| 控制方式 | 双盘单控 |
| 转向选择 | 双转向(正反转) |
| 磨盘转速 | 无极调速100-1450转/分钟+高低定速 |
| 主机功率 | 550W |
| 速度控制 | 交流变频器控制 |
| 磨盘直径 | 230mm(可选配200、250、300mm等规格) |
| 出水喷洒 | 万向可调 |
| 外形尺寸 | 650X550X350mm |
| 电源 | 220V |
中研 MPD-2W金相磨抛机使用方法:
- 准备设备:确保MPD-2W磨抛机处于良好状态,检查电源和水源。
- 选择磨抛材料:根据样品的性质选择合适的磨砂纸和抛光材料。
- 安装样品:将待磨抛样品固定在磨抛盘上,确保其稳定。
- 设置转速:根据材料的硬度和磨抛要求,调节设备的转速。
- 进行磨抛:启动设备,进行研磨和抛光,观察样品表面变化。
- 清洁样品:磨抛完成后,清洁样品表面,准备进行显微镜观察。
中研 MPD-2W金相磨抛机哪些实验室在用:
- 中国科学院金属研究所:用于金属材料的显微结构分析。
- 清华大学材料科学与工程系:用于合金材料的磨抛和性能评估。
- 北京航空航天大学:用于航空材料的微观结构研究。
- 上海交通大学材料科学与工程学院:用于陶瓷和复合材料的磨抛。
- 中南大学材料科学与工程学院:用于岩石样本的磨抛和分析。
- 武汉理工大学:用于材料科学课程的实验教学。
中研 MPD-2W金相磨抛机售后服务支持:
- 在线支持:提供在线技术支持,用户可以通过电子邮件或官方网站提交问题。
- 电话支持:专业技术团队可通过电话为用户提供实时帮助。
- 保修期限:提供一定期限的保修服务,具体视购买协议而定。
- 现场维修:提供现场维修服务,确保设备快速恢复正常运行。
- 运输维修:若设备不能现场修复,可以安排运输至服务中心进行维修。
- 维护计划:提供定期维护服务,以确保设备的最佳性能和准确度。
- 校准服务:定期校准设备,确保测量结果的可靠性。
- 用户培训:提供设备操作培训,确保用户能够熟练使用仪器。
- 应用培训:针对特定应用提供培训,以帮助用户发挥设备的最大潜力。
相关产品:
金相显微镜:用于观察磨抛后的样品微观结构,分析材料特性。
万能材料试验机:用于测试材料的力学性能,如拉伸和压缩。
硬度计:用于测量磨抛样品的硬度,评估其耐磨性。
扫描电子显微镜:用于高分辨率观察样品表面特征,分析微观结构。
热分析仪:用于评估材料在不同温度下的性能,结合磨抛结果进行综合分析。
激光三维形貌显微镜:用于测量样品表面的粗糙度和形貌特征,提供更全面的分析数据。
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