MICRO-X TF1000-250-HV-T10高真空管式炉

 

TF1000-250-HV-T10高真空管式炉加热区长度为400mm，最高温度可达1000℃。能够达到6×10^-4Pa的高真空度。炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，具有良好的保温性能和耐用性。具有高效率、无污染、低能耗和低噪音的特点。

科研实验应用：主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等场合。

MICRO-X TF1000-250-HV-T10高真空管式炉技术参数：

型号	TF1000-250-HV-T10
控制界面	10英寸液晶触摸屏，北京昆仑通态，可预设多达百条工艺程序，并可编辑不同中英文工艺名称，需要时直接调用，互不干扰，无需重复修改参数。
电源电压	AC380V,50/60Hz
外形尺寸	860*1420*1280mm（深*宽*高）
设备重量	370Kg
设备总功率	12Kw
加热功率	10.8Kw
加热区	400mm
有效区	200mm
******温度	1000℃
使用温度	≤900℃（高真空条件下）
升温速率	≤120℃/min（***快）
测温传感器	美国进口欧米伽热电偶OMEGAN型
加热元件	红外灯管
保温材料	氧化铝多晶纤维
控温仪表	30段可编程控制，控温精度±1℃，模糊PID控制和自整定调节功能
******真空度	3*10-4Pa（空炉冷态）
真空机组功率	1Kw
石英管及尺寸	250*900mm，高温下稳定性强，耐腐蚀，热膨胀系数极小，承受骤冷骤热

MICRO-X TF1000-250-HV-T10高真空管式炉使用方法：

1. 准备工作：确保炉子和相关设备清洁，检查真空系统是否正常。
2. 装载样品：将待处理的样品放入炉膛内，确保样品位置正确。
3. 设置参数：根据实验需求设置温度、时间和真空度。
4. 启动设备：开启真空泵，抽取炉内空气，达到所需真空度。
5. 加热：启动加热系统，逐步升温至设定温度。
6. 冷却与取样：实验结束后，关闭加热系统，待炉膛冷却后取出样品。

MICRO-X TF1000-250-HV-T10高真空管式炉哪些实验室在用：

• 中国科学院金属研究所：用于金属材料的高温处理。
• 清华大学材料科学与工程系：用于新材料的合成与测试。
• 北京大学物理学院：用于半导体材料的研究。
• 复旦大学化学系：用于化学反应的高温实验。
• 上海交通大学材料科学与工程学院：用于陶瓷材料的烧结。
• 中科院化学研究所：用于催化剂的制备与性能测试。

MICRO-X TF1000-250-HV-T10高真空管式炉售后服务支持：

• 服务内容：提供专业的安装和调试服务，确保设备正常运行。
• 定期维护：建议每年进行一次全面的维护，包括硬件检查和软件更新。
• 校准服务：按照国际标准对设备进行校准，保证测试结果的准确性。
• 热线支持：提供24小时技术热线，解决用户在使用过程中遇到的技术问题。
• 在线支持：通过邮件和在线聊天工具提供技术咨询。
• 原厂配件：提供原厂认证的配件和耗材，确保设备的长期稳定运行。
• 用户培训：为操作人员提供设备使用和维护的培训，确保用户熟练掌握操作技能。
• 定期研讨会：定期举办用户交流会，分享最佳实践和最新技术。

相关产品：

真空泵：用于抽取炉内空气，维持高真空环境。

温度控制器：用于精确控制炉内温度。

气氛控制系统：用于调节炉内气氛，适应不同实验需求。

热电偶：用于实时监测炉内温度。

气体分析仪：用于分析炉内气体成分，确保实验条件。

冷却系统：用于快速冷却炉膛，保护样品和设备。