成越科仪CY-PSP180G-3TA等离子溅射镀膜仪

 

成越科仪CY-PSP180G-3TA三靶等离子溅射镀膜仪配有两路高精度质量流量计，可满足复杂的气体环境构建需求。同时标配先进的涡轮分子泵组，极限真空可达1.0E-1Pa，可选配其他类型的分子泵。样品台外形尺寸为150mm，可加热至500°C，控温精度±1°C，可调转速≦20rpm。磁控靶枪1~3个靶可选。

科研实验应用：广泛应用于材料科研领域。包括：1、属/合金薄膜制备：在金属、陶瓷、高分子基底上沉积各种金属薄膜，如铜、铝、钛等；2、陶瓷/氮化物薄膜制备：沉积氧化物、碳化物、氮化物等陶瓷薄膜；3、表面改性及功能化：在高分子、金属、陶瓷基底上沉积各种功能性薄膜；4、先进制备工艺开发：优化溅射工艺参数，开发满足特定应用需求的薄膜制备工艺。

成越科仪CY-PSP180G-3TA三靶等离子溅射镀膜仪参数：

三靶等离子溅射镀膜仪
样品台	尺寸	φ138mm	控温精度	±1℃
	加热温度	高500℃	转速	1-20rpm可调
直流溅射头	数量	2"×1 （1~3个靶可选）
真空腔体	腔体尺寸	φ180mm×150mm	观察窗口	全向透明
	腔体材料	高纯石英	开启方式	顶盖上翻式
真空系统	机械泵	旋片泵	抽气接口	KF16
	真空测量	电阻规	排气接口	KF16
	极限真空	1.0E-1Pa	供电电源	AC220V50/60Hz
	抽气速率	旋片泵：1.1L/S
电源配置	数量	直流电源 x1	大输出功率	150W
其他	供电电压	AC220V,50Hz	整机尺寸	360mm×300mm× 470mm
	整机功率	800W	整机重量	40kg

成越科仪CY-PSP180G-3TA等离子溅射镀膜仪使用方法：

• 将待镀样品安装到镀膜支架上。
• 加载镀膜材料钛金属目标到固定位置。
• 打开高真空泵将工作室真空度调整到10-4Pa左右。
• 打开RF高频发生器和DC信号产生器，引发等离子体冲击膜塞出镀膜材料。
• 调节高压供电和高频发生功率控制膜层质量和速率。
• 镀膜结束后关闭发生器，待工作室恢复原压后取出样品。
• 取出镀膜样品，根据需要进行清洗、测试等后续处理。

成越科仪CY-PSP180G-3TA等离子溅射镀膜仪有哪些实验室在用：

• 北京科技大学物理学院
• 湖南大学东方硅材料工程技术研究中心
• 西安理工大学电子科学与技术学院
• 同济大学材料科学与工程学院
• 东北大学材料科学与工程学院
• 中国科学技术大学材料科学与工程学院

成越科仪CY-PSP180G-3TA等离子溅射镀膜仪售后服务支持：

• 安装调试：提供1次免费安装调试服务。
• 培训支持：提供1次操作培训和说明书培训。
• 技术支持：提供3年内无限次电话和在线技术支持。
• 设备检修：提供3年内1次免费检修，超出部分另计。
• 软件升级：提供一定年限的免费软件升级服务。
• 易损件更换：提供3年内容量低于额定值50%的易损件更换。
• 免费养护：提供1次免费养护服务，免费更换耗材。
• 邮寄服务：国内优先快递寄送，过重部分另议价格。
• 售后服务热线：提供7x24h售后服务热线支持。

相关产品：

真空系统：涡轮分子泵、机械泵等，实现高真空环境。

气体供给系统：氩气、氮气等高纯度工作气体。

电源系统：直流/射频电源，为溅射靶材提供合适功率。

真空计及控制系统：监测并调节真空腔内压力。

样品操作系统：可编程样品台，实现样品位置及角度控制。

辅助设备：光学监测系统、膜厚测量仪等，实时监控镀膜过程。

镀膜速率测定机。

流量控制仪(Ar+O2)。