中科创仪 SC2000T高真空磁控溅射镀膜仪

 

SC2000T是中科创仪推出的一款高性能高真空磁控溅射镀膜系统。采用先进的磁控溅射技术,对样品无热损伤。可用于在各类基板上沉积高质量的功能性薄膜。先进的机械和分子泵组合,可达到≤5×10-3Pa的高真空度。具有集中控制系统,操作界面人性化,使用方便。可实现真空系统、加热、溅射等过程的自动化控制。

中科创仪 SC2000T高真空磁控溅射镀膜仪

科研实验应用:广泛应用于汽车、电子、光学等领域的材料研发与制备。用于:1、功能性薄膜制备:耐磨、耐腐蚀、导电、绝缘等;2、电子元器件薄膜沉积,用于制造汽车仪表、显示屏、传感器等;3、材料表征分析:对车用材料进行表面分析和薄膜特性测试。

中科创仪 SC2000T高真空磁控溅射镀膜仪参数:

外形尺寸 424(L)×345(D)×420(H)
输入电源 220V/800W
可用靶材 所有金属、部分化合物
靶材尺寸 φ57mm
真空室 高硅硼玻璃φ200×130mm
工作介质 高纯氩气(≥4N)
低真空泵 旋片泵
抽速 1.1L/s
高真空泵 进口涡轮分子泵
抽速 90L/s
极限真空 ≤5×10-3Pa
工作真空 0.1-3Pa
溅射电流 5-200mA可调
溅射时间 1-999s可调
样品台 φ125mm
样品台转速 4-20rpm可调
显示屏 7英寸TFT彩色触摸屏
抽气节拍 ≤5分钟
进气 全自动
放气 全自动
预溅射 具备预溅射挡板,全自动控制
保护功能 过流保护、真空保护、分子泵过热保护等
膜厚仪(选配)

可实时显示镀膜厚度,并通过设定来控制镀膜过程,最优测量精度0.1nm

单次镀膜设定范围1-999nm,最大测量范围10μm

其它 可根据用户需要,提供定制化产品

中科创仪 SC2000T高真空磁控溅射镀膜仪使用方法:

  • 根据操作手册要求进行设备的安装和调试。
  • 确保各部件正常运转,真空系统密封良好。
  • 上料:将基板放置于基板托架上,进行预处理。
  • 溅射:选择合适的溅射靶材,设置工艺参数如功率、时间等。
  • 取样:根据需要适时取出薄膜样品进行表征分析。
  • 下料:实验结束后,安全取出基板并进行清洁。
  • 根据目标薄膜性能,针对性地调节工艺参数,如功率、气压、温度等。
  • 通过反复试验,摸索出最佳的薄膜沉积工艺。

中科创仪 SC2000T高真空磁控溅射镀膜仪有哪些实验室在用:

  • 中国科学技术大学先进制造与自动化学院
  • 上海交通大学物理与材料科学学院
  • 中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 武汉理工大学材料科学与工程学院
  • 北京科技大学物理与材料科学学院

中科创仪 SC2000T高真空磁控溅射镀膜仪售后服务支持:

  • 拥有专业的维修团队,能快速响应用户需求。
  • 备有常见易耗件,确保及时处理故障。
  • 设有热线电话,提供365天全天侯的技术支持。
  • 定期组织用户交流会,分享新技术、新应用。
  • 定期推出设备软件的免费升级版本。
  • 持续优化功能,提升设备性能和使用体验。
  • 根据用户需求,提供设备操作、工艺优化等方面的专业培训。
  • 帮助用户快速掌握设备使用技巧。

相关产品:

  • 真空热蒸发镀膜仪:用于制备金属、有机功能薄膜。
  • 激光打标机:与镀膜仪联用实现薄膜样品制备与表征。
  • 真空热处理炉:用于薄膜退火、化学反应等。

中科创仪 SC2000T高真空磁控溅射镀膜仪在汽车研发中扮演着重要角色,不仅可以提升零部件性能,还能为材料表征分析提供有力支撑。随着汽车制造向精密化、轻量化发展,应用前景广阔。

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