OPTO-EDU A50.7038离子束刻蚀机

 

OPTO-EDU A50.7038离子束蚀刻机集TEM、SEM样品铣削（抛光）、蚀刻、高真空离子溅射镀膜三合一为一体，2个独立控制离子枪，机械+分子泵，大加工面积25mm，10英寸彩色液晶触摸屏，内置计算机和控制系统，简单菜单全自动工作。

科研实验应用：适用于材料科学、纳米技术和光学领域的研究和制造。用于纳米结构的制备和加工、半导体工艺中去除材料的特定部分、集成电路和纳米器件的制造、光学元件和光子学器件的加工、表面改性和纳米纹理制备等。

OPTO-EDU A50.7038离子束刻蚀机技术参数：

• 离子源：氩离子，可选氙离子
• 离子枪：2支对角离子枪（标配），可独立控制，90°或180°位置，可升级至4支离子枪
• 自动铣削：铣削角度0°~90°（标准铣削角度0°，其他角度机械可调）
• 离子束能量：0~6kV（低能铣削），0~10kV（高能蚀刻）
• 离子电流密度峰值：10毫安/平方厘米
• 气体流量控制：0~10ml/min可调
• 光斑尺寸：300μm~500μm和1.5mm~2.5mm
• 铣削阶段：360°连续旋转，适用于平面铣削和截面铣削
• 旋转速度：6–10转/分钟
• 泵系统：主体机械泵+涡轮分子泵
• 真空：极限真空度5x10-3Pa
• 真空计：数字真空采集系统
• 标本气闸：样品交换抽真空时间2.5分钟
• 屏幕：10英寸彩色触摸屏
• 主体尺寸（长x宽x高）：380x405x560mm
• 主体重量：48公斤

OPTO-EDU A50.7038离子束刻蚀机使用方法：

1. 准备待加工样品，并将其放置在刻蚀室中的样品台上。
2. 设置刻蚀参数，如离子束能量、束流密度和刻蚀时间等。
3. 调节束流控制器，使离子束对样品表面进行加工。
4. 监测刻蚀过程，可以使用原位表征技术或离线测试方法进行表征和评估。
5. 根据需要进行后处理，如清洗、退火或涂覆等。

OPTO-EDU A50.7038离子束刻蚀机有哪些实验室在用：

• 中国科学院微电子研究所
• 北京大学微电子学院
• 西安电子科技大学微电子技术国家重点实验室
• 同济大学先进制造技术学院
• 中国科学技术大学先进制造技术国家工程实验室

OPTO-EDU A50.7038离子束刻蚀机售后服务支持：

• 可选购1-3年质保服务。
• 全年24小时在线技术支持。
• 定期进行设备检测、固件升级和系统维护。
• 自定义定制检测报告和优化方案。
• 如质保期内无法现场修复，提供换机服务。
• 使用培训和工艺技术支持咨询。

相关产品：

样品准备设备：样品清洗、退火或涂覆等预处理的设备，如清洗机、退火炉或溅射镀膜设备。

表征设备：用于刻蚀前后样品表征和评估的设备，如扫描电子显微镜（SEM）或原子力显微镜（AFM）等。

掩膜技术：用制备和保护特定区域的掩膜技术，如光刻或电子束曝光技术。

气相化学反应装置。