Canon FPA-3030i5a半导体光刻设备

 

Canon FPA-3030i5a半导体光刻设备支持从50毫米到200毫米的各种晶圆尺寸。新的腔室温度控制系统有助于降低约20%的功耗。在8英寸晶圆条件下，生产率提高了约17%。采用支持暗场对准测量的离轴对准镜，增强了工艺稳定性。

科研实验应用：用于微电子领域的芯片制造。在科研实验中有多种应用：新型半导体器件的研发和制造、微纳米加工技术研究、光刻工艺参数优化、高分辨率微细图案的制备。

Canon FPA-3030i5a半导体光刻设备技术参数：

• 解决：≤0.35微米
• 减速比：1:5
• 视野大小：20mmx20mm（5英寸）/22mmx22mm（6英寸）
• 曝光波长：i线365nm
• 标线尺寸：5寸/6寸（选配）
• 晶圆尺寸：50毫米（2英寸）/75毫米（3英寸）/100毫米（4英寸）/150毫米（6英寸）/200毫米（8英寸）（选择）
• 叠加精度：≤40纳米
• 主体尺寸（宽x深x高）：1,900×2,600×2,450mm（含排气管：2650mm）
• 主要选项：适用于特殊基板的晶圆处理套件
• PC远程控制台
• 符合GEM标准的在线软件
  

Canon FPA-3030i5a半导体光刻设备使用方法：

• 准备衬底（通常是硅片）和光刻胶。
• 将衬底放置在光刻设备的台面上，并进行对准和固定。
• 使用光刻设备的涂布模块将光刻胶均匀涂布在衬底上。
• 进行曝光操作，将光刻胶上的图案转移到衬底上。
• 进行开发操作，去除未暴露的光刻胶部分，得到所需的图案。

Canon FPA-3030i5a半导体光刻设备有哪些实验室在用：

• 北京大学微电子学院
• 上海华力微电子应用技术研究所
• 同济大学微电子研究院
• 西安电子科技大学先进制造技术国家重点实验室
• 哈尔滨工业大学(深圳)半导体科学与工程学院

Canon FPA-3030i5a半导体光刻设备的售后服务方式包括：

• 现场服务：售后服务工程师到客户现场进行服务；
• 电话服务：由Canon公司的售后服务工程师通过电话为客户提供服务；
• 远程服务：工程师通过远程连接为客户提供服务。
  

售后服务质量保证：

• Canon公司的售后服务工程师均经过严格的培训，具有丰富的经验和专业的技术；
• 售后服务工程师将严格按照售后服务流程进行服务，确保服务质量；
• 将对售后服务质量进行定期检查，并不断改进售后服务质量。

相关产品：

光刻胶：图案转移的光刻胶材料。

掩膜：制作光刻胶上的图案的掩膜。

光刻胶涂布机：均匀涂布光刻胶的设备。

光刻胶开发机。