SUSS MicroTec MA6紫外光刻机

 

SUSS MicroTec MA6紫外光刻机使用365-436nm光来曝光直径达150mm的晶圆。该系统配有摄像机，用于对准晶圆正面或背面的图案。并打印小至1µm的特征尺寸。多功能掩模支架允许圆形和方形板作为掩模，样品板可容纳小型和异形基板。

典型应用：该设备适用于先进IC、MEMS、生物芯片等领域的研发应用。如：医疗设备、生物流体装置、微机电系统、热传感器、印刷微米尺寸和更大的特征。

SUSS MicroTec MA6紫外光刻机技术数据：

• 晶圆尺寸：最大150毫米/6英寸（圆形）
• 最小。件数：5x5mm
• 掩模尺寸：SEMI规格，标准可达7”x7”(SEMI)

曝光模式：

• 接触：软、硬、低真空、真空
• 接近：曝光间隙1-300μm

光学：

• UV250、UV300、UV400和宽带光学器件
• 强度均匀度±5%(100mm)
• 恒定功率或恒定强度
• 灯尺寸：200W、350W、500W（适用于UV250）
• 分辨率低至0.4µmL/S（真空接触，UV250）

结盟：

• 顶部对齐（TSA）；底部对齐(BSA)；红外对准(IR)真空
• TSA对准精度：0.5μm（采用SUSS推荐的晶圆目标）
• BSA：低至1μm
• 对准间隙：1–1000μm

SUSS MicroTec MA6紫外光刻机有哪些实验室在用：

• 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
• 清华大学微电子技术研究院
• 中国科学技术大学微电子学院
• 复旦大学微电子学院
• 中国科学院半导体研究所

在芯片实验室，SUSS MicroTec MA6紫外光刻机常与以下设备联合使用：离子束刻蚀机、光刻阻挡质检机、成膜设备、原子层沉积设备、等离子体处理设备、移动探针检测仪、光谱仪、原子力显微镜、电子显微镜等，可以实现MA6光刻全过程的监测与优化，这些联用设备为新一代器件研发提供重要支撑。

MA6代表最新光刻工艺水平，系统易维护、提供全程服务支持。已成功应用与各大厂商和研发机构。