Parr Instrument 4571反应釜
Parr Instrument 4571反应釜工作压力可达5000psi (345bar)，温度可达500°C。该反应器能够在极端条件下操作，适合需要高温和高压的化学反应。配备4842温度控制模块，确保反应过程中的温度精确控制。内置转速传感器和读数显示，便于监控搅拌速度。
科研实验应用：1、催化反应研究：测试催化剂在高压下的性能，如加氢反应或氧化反应；2、材料合成：高压合成纳米材料、晶体或复合材料；3、化工过程模拟：模拟工业反应条件，研究反应动力学或产物分布；4、有机合成：在高压下进行复杂有机分子合成，如药物中间体制备。
Parr Instrument 4571反应釜技术参数：
| 型号–可移动容器 | 4571 |
| 型号–固定头 | 4577 |
| 近似体积，mL | 1000 |
| 最大压力（MAWP） | 5000磅/平方英寸（345巴） |
| 最高温度 | |
| 带柔性石墨平垫片 | 500摄氏度 |
| 支架类型 | 推车/落地支架 |
| 关闭 | 开口环（12个压缩螺栓用于平垫圈） |
| 阀门连接 | 1/4″内螺纹NPT |
| 磁力驱动器，型号 | A1120HC |
| 最大扭矩 | 16英寸磅 |
| 叶轮，6叶片（4叶片） | 2（直径2英寸） |
| 搅拌器电机 | 1/4马力变速 |
| 压力表，尺寸 | 4.5英寸 |
| 范围 | 0-5000psi（345bar） |
| 温度测量 | 热套管 |
| 冷却盘管（含） | 蛇纹石 |
| 底部排水阀(BDV) | 1英寸NPS（仅支持落地支架） |
| 加热器类型 | Calrod：固定头，陶瓷：可拆卸 |
| 加热器功率，瓦 | 2800 |
| 交流电压 | 230 |
| 最大负载，安培，115/230 | 15 |
| 气缸尺寸 | |
| 内径x深度，英寸 | 3.75x6.2 |
| 可移动容器组件重量，磅 | 83 |
| 固定容器组件重量，磅 | 92 |
| 气缸重量，磅 | 三十六 |
| 反应器/立架尺寸 | |
| 可移动宽度x深度，英寸（不含控制器） | 推车：35x18x50 |
| 固定宽度x深度，英寸（不含控制器） | 落地支架：20x31x75 |
| 可移动重量，磅 | 245 |
| 固定重量，磅 | 265 |
| 备件套件 | 4579米 |
Parr Instrument 4571反应釜使用方法：
- 设备检查与准备：检查反应釜、密封圈、爆破片和阀门是否完好，放置于通风橱或安全区域，连接电源和控制器。
- 装载样品：将反应物（固体、液体或气体）加入反应釜，避免超过容积的 2/3（考虑压力膨胀）。 若需气体反应（如H2或O2），关闭釜盖前连接气体管路。
- 密封与连接：安装密封圈，紧固釜盖螺栓（按对角线顺序均匀拧紧），连接进气阀、排气阀和压力传感器。
- 设置反应条件：在控制器上设定目标温度（如300°C）、压力（如100bar）和搅拌速度（如400rpm），启动加热和搅拌。若需通入气体，通过进气阀缓慢加入（如50bar H2），观察压力表。
- 运行与监控：启动反应，实时监控温度和压力，确保不超过设备限值。 根据实验设计保持反应时间（如2小时），必要时取样分析。
- 结束与清洗：反应结束后关闭加热，待釜体自然冷却至低于50°C，缓慢释放压力。 打开釜盖，取出产物，用去离子水或溶剂清洗反应釜，干燥后存放。
Parr Instrument 4571反应釜有哪些实验室在用：
- 中国科学院化学研究所（北京）：高压催化加氢反应，研究新型催化剂的活性。
- 清华大学化学工程系（北京）：模拟工业高压合成氨条件，优化反应参数。
- 上海交通大学材料科学与工程学院（上海）：高压合成金属有机框架（MOF）材料，研究其储氢性能。
- 浙江大学化学系（杭州）：高压有机合成，制备药物中间体。
- 华南理工大学能源与环境学院（广州）：生物质高压水热转化，研究可再生燃料生产。
- 中国石油大学（华东）（青岛）：高压下烃类裂解反应，分析石油化工过程。
Parr Instrument 4571反应釜售后服务支持：
- 保修期：设备通常提供一定期限的保修期，涵盖制造缺陷和材料问题。
- 备件供应：确保常用备件的及时供应，减少设备停机时间。
- 软件更新：定期提供软件升级服务，添加新功能和修复已知问题。
- 硬件升级：可根据需求提供硬件升级服务，提升设备性能。
- 问题响应：针对客户反馈的问题，提供快速响应和解决方案。
- 保修范围：在保修期内，涵盖设备的材料和工艺缺陷。
- 在线资源：提供用户手册、操作指南和常见问题解答（FAQ）的在线访问。
- 满意度调查：定期进行客户满意度调查，收集反馈以改进服务质量。
相关产品：
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Kemet K-Sonic 6超声波清洗机：清洗反应釜内壁和配件，去除残留物。
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