CYKY CY-O1200-50IIT化学气相沉积仪

CVD(化学气相沉积)CY-O1200-50IIT由双加热区管式炉、三通道浮子流量计和高真空分子泵组组成。管式炉两个加热区，由精密温控仪表独立控温。通过调节每个温区的温度，管式炉可以在加热区形成两个温度梯度或形成一个长的恒温区。每区可编辑30段升降温程序，具有过热和短路保护。采用高清真彩触摸屏操作，使用方便。

科研实验应用：1、半导体制造：用于沉积各种半导体材料，如硅、氮化物等，制造集成电路和微电子器件；2、光电材料研究：适用于沉积光电材料，如薄膜太阳能电池和发光二极管（LED）材料；3、表面涂层：在金属、陶瓷和玻璃等基材上沉积保护性或功能性涂层，提高材料的耐磨性和化学稳定性；4、纳米材料合成；5、催化剂开发：制备催化剂薄膜，研究其在催化反应中的性能。

CYKY CY-O1200-50IIT化学气相沉积仪技术参数：

真空管炉	模型	CY-O1200-50IIT
	管材	高纯度石英
	管径	50mm（可选60mm、80mm、100mm）
	管长度	1000毫米
	炉腔长度	440毫米
	加热区长度	200毫米+200毫米
	工作温度	0~1100℃
	控温精度	±1℃
	控温方式	30或50段程序控温
	显示模式	液晶显示屏
	密封方式	304不锈钢真空法兰
	法兰接口	1/4寸套圈连接器，KF16/25/40 接头
	真空	4.4E-3帕斯卡
	电源	交流电：220V 50/60Hz
供气系统	模型	CY-3F
	气通道	3 通道
	測量單元	气体浮子流量计
	测量范围	A通道：0～100ml H2气体	备注：如需要其他量程或气体类型，需在订货时注明，根据客户具体要求可选用相应气体类型和量程的流量计。
		B通道：16～160ml N2气
		C通道：25～250ml Ar气
	测量精度	±2.0%
	管道耐压性能	3兆帕
	工作压差	50～300千帕
	连接管	304不锈钢
	气通道	304不锈钢针型阀
	接口规范	1/4切割套管接头，用于气体入口和出口
排气系统	模型	CY-GZK103-B
	分子泵	CY-600
	前级泵	旋片泵
	抽气速率	分子泵：600L/S		综合抽气性能：30分钟真空度可达：1.0E-3Pa
		旋片泵：1.1L/S
	抽水接口	KF40
	排气接口	KF16
	真空测量	复合真空计：电阻计+电离计
	极限真空	1.0E-5帕斯卡
	电源	交流电：220V 50/60Hz

CYKY CY-O1200-50IIT化学气相沉积仪使用方法：

样品准备：确保样品表面清洁，适合CVD沉积。根据需要选择合适的基材。
系统设置：启动CVD仪器，设定温度、压力和气体流量等参数。通常，温度范围在300°C至1200°C之间。
气体流量控制：选择适当的前驱体气体和载气，调节其流量和比例，以确保均匀沉积。
沉积过程：启动沉积程序，监测温度和压力，确保系统稳定运行。
沉积结束：完成沉积后，逐步冷却系统，避免快速降温导致材料应力。
后处理：必要时进行后处理，如退火或刻蚀，以优化材料性能。
数据记录与分析：记录沉积参数和结果，进行后续分析，评估沉积膜的质量和特性。

CYKY CY-O1200-50IIT化学气相沉积仪有哪些实验室在用：

中国科学技术大学材料科学与工程学院：用于二维材料、新型功能薄膜的沉积
清华大学微电子所：应用于集成电路关键薄膜材料的沉积生长
北京大学物理学院：用于拓扑绝缘体、量子点等新材料的薄膜沉积
复旦大学电子信息与电气工程学院：应用于先进半导体器件薄膜的制备
上海交通大学材料科学与工程学院：用于高性能陶瓷、金属氧化物薄膜的沉积

CYKY CY-O1200-50IIT化学气相沉积仪售后服务支持：

质保期限：为CY-O1200-50IIT化学气相沉积仪提供一定期限的标准质保。
维修响应：拥有专业的维修团队，能够在72小时内到达现场进行维修。
备件供应：建有齐全的备件库存，确保为客户及时提供所需配件。
技术支持：设有7*24小时的技术咨询热线，提供专业的应用指导。
软件升级：承诺为CY-O1200-50IIT提供免费的软件版本升级服务。
培训服务：定期组织用户培训，帮助客户掌握设备的高效使用。
定制服务：可根据客户需求提供定制化的薄膜沉积系统配置。

相关产品：

扫描电子显微镜（SEM）：用于观察沉积膜的微观结构和表面形貌。

X射线衍射仪（XRD）：研究沉积膜的晶体结构和相组成。

光谱仪（如FTIR）：分析沉积膜的化学成分和分子结构。

原子力显微镜（AFM）：用于表征沉积膜的表面粗糙度和形貌。

热重分析仪（TGA）：研究沉积膜的热稳定性和分解特性。